什么是nmos
NMOS英文全稱為N-Metal-Oxide-Semiconductor。 意思為N型金屬-氧化物-半導(dǎo)體,而擁有這種結(jié)構(gòu)的晶體管我們稱之為NMOS晶體管。 MOS晶體管有P型MOS管和N型MOS管之分。由MOS管構(gòu)成的集成電路稱為MOS集成電路,由NMOS組成的電路就是NMOS集成電路,由PMOS管組成的電路就是PMOS集成電路,由NMOS和PMOS兩種管子組成的互補MOS電路,即CMOS電路。
什么是pmos
PMOS是指n型襯底、p溝道,靠空穴的流動運送電流的MOS管。
P溝道MOS晶體管的空穴遷移率低,因而在MOS晶體管的幾何尺寸和工作電壓絕對值相等的情況下,PMOS晶體管的跨導(dǎo)小于N溝道MOS晶體管。此外,P溝道MOS晶體管閾值電壓的絕對值一般偏高,要求有較高的工作電壓。它的供電電源的電壓大小和極性,與雙極型晶體管——晶體管邏輯電路不兼容。PMOS因邏輯擺幅大,充電放電過程長,加之器件跨導(dǎo)小,所以工作速度更低,在NMOS電路(見N溝道金屬—氧化物—半導(dǎo)體集成電路)出現(xiàn)之后,多數(shù)已為NMOS電路所取代。只是,因PMOS電路工藝簡單,價格便宜,有些中規(guī)模和小規(guī)模數(shù)字控制電路仍采用PMOS電路技術(shù)。
nmos和pmos區(qū)別
在實際項目中,我們基本都用增強型mos管,分為N溝道和P溝道兩種。我們常用的是NMOS,因為其導(dǎo)通電阻小,且容易制造。在MOS管原理圖上可以看到,漏極和源極之間有一個寄生二極管。這個叫體二極管,在驅(qū)動感性負載(如馬達),這個二極管很重要。順便說一句,體二極管只在單個的MOS管中存在,在集成電路芯片內(nèi)部通常是沒有的。
1、導(dǎo)通特性
NMOS的特性,Vgs大于一定的值就會導(dǎo)通,適合用于源極接地時的情況(低端驅(qū)動),只要柵極電壓達到4V或10V就可以了。 PMOS的特性,Vgs小于一定的值就會導(dǎo)通,適合用于源極接VCC時的情況(高端驅(qū)動)。但是,雖然PMOS可以很方便地用作高端驅(qū)動,但由于導(dǎo)通電阻大,價格貴,替換種類少等原因,在高端驅(qū)動中,通常還是使用NMOS。
2.MOS開關(guān)管損失
不管是NMOS還是PMOS,導(dǎo)通后都有導(dǎo)通電阻存在,這樣電流就會在這個電阻上消耗能量,這部分消耗的能量叫做導(dǎo)通損耗。選擇導(dǎo)通電阻小的MOS管會減小導(dǎo)通損耗?,F(xiàn)在的小功率MOS管導(dǎo)通電阻一般在幾十毫歐左右,幾毫歐的也有。 MOS在導(dǎo)通和截止的時候,一定不是在瞬間完成的。MOS兩端的電壓有一個下降的過程,流過的電流有一個上升的過程,在這段時間內(nèi),MOS管的損失是電壓和電流的乘積,叫做開關(guān)損失。通常開關(guān)損失比導(dǎo)通損失大得多,而且開關(guān)頻率越高,損失也越大。 導(dǎo)通瞬間電壓和電流的乘積很大,造成的損失也就很大??s短開關(guān)時間,可以減小每次導(dǎo)通時的損失;降低開關(guān)頻率,可以減小單位時間內(nèi)的開關(guān)次數(shù)。這兩種辦法都可以減小開關(guān)損失。
3.MOS管驅(qū)動
跟雙極性晶體管相比,一般認為使MOS管導(dǎo)通不需要電流,只要GS電壓高于一定的值,就可以了。這個很容易做到,但是,我們還需要速度。 在MOS管的結(jié)構(gòu)中可以看到,在GS,GD之間存在寄生電容,而MOS管的驅(qū)動,實際上就是對電容的充放電。對電容的充電需要一個電流,因為對電容充電瞬間可以把電容看成短路,所以瞬間電流會比較大。選擇/設(shè)計MOS管驅(qū)動時第一要注意的是可提供瞬間短路電流的大小。
第二注意的是,普遍用于高端驅(qū)動的NMOS,導(dǎo)通時需要是柵極電壓大于源極電壓。而高端驅(qū)動的MOS管導(dǎo)通時源極電壓與漏極電壓(VCC)相同,所以這時柵極電壓要比VCC大4V或10V。如果在同一個系統(tǒng)里,要得到比VCC大的電壓,就要專門的升壓電路了。很多馬達驅(qū)動器都集成了電荷泵,要注意的是應(yīng)該選擇合適的外接電容,以得到足夠的短路電流去驅(qū)動MOS管。
PMOS和NMOS導(dǎo)通條件
MOS與NMOS兩種增強型場效應(yīng)管的開關(guān)電路作了詳細的介紹, 并且還提到過一種廣為流傳的說法:相對于NMOS管,PMOS管的溝道導(dǎo)通電阻更大、速度更慢、成本更高等,還是從頭講起吧!
如果讀者有一定的電子技術(shù)應(yīng)用經(jīng)驗的話,對NMOS管開關(guān)電路的使用場合肯定是如數(shù)家珍,幾乎所有的開關(guān)電源拓撲都偏向于使用NMOS管(而不是PMOS管),如正激、反激、推挽、半橋、全橋等拓撲,NMOS管的應(yīng)用電路案例真心不要太多。
可以看看國際整流器MOS管的分類,如下圖所示:
除兩個圈所標注的內(nèi)容是PMOS管外,其它都是NMOS管,并且NMOS管在電壓檔次上比PMOS管要細分得多,從側(cè)面可以說明NMOS管的應(yīng)用場合比PMOS要大得多(因為應(yīng)用多,所以需求多,繼而型號多),如果你粗略地統(tǒng)計一下PMOS與NMOS型號的數(shù)量,NMOS管絕對獨占鰲頭。
有人說:應(yīng)該是PMOS管在使用的時候控制電路太過復(fù)雜,與NMOS管的驅(qū)動比較,PMOS還需要額外的三極管,成本太高。那繼續(xù)往下看,如果讀者對電子技術(shù)足夠感興趣且好奇心總是不一般的話,應(yīng)該對降壓型BUCK單片開關(guān)電源電路有一定的了解,那自然會遇到類似下圖所示的電路:
這是最常用的BUCK拓撲降壓芯片的典型應(yīng)用電路,但是有些降壓芯片應(yīng)用電路卻稍微有所不同,如下圖所示:
與LM2596S芯片相比多了一個BOOST(BST)引腳,一般在該引腳與SW之間串一個小電容,這是為什么呢?
有經(jīng)驗的讀者可能會說:這種芯片是采用同步整流方案(關(guān)于同步整流可參考文章【開關(guān)電源(1)之BUCK變換器】,簡單的說,就是用MOS管來代替續(xù)流二極管,以達到降低損耗繼而提升轉(zhuǎn)換效率的目的),內(nèi)部是用兩個NMOS管配合工作的,需要一個自舉升壓電路,所以才需要外接一個電容。該芯片開關(guān)管結(jié)構(gòu)如下圖所示:
然而同步整流方案與使用NMOS管作為開關(guān)管之間沒有因果關(guān)系,換言之,就算是異步整流方案,芯片也會偏向于使用NMOS管,如下圖所示:
LM25011就是異步整流方案,該芯片的內(nèi)部開關(guān)管的結(jié)構(gòu)如下圖所示:
總之一句話:如果內(nèi)部開關(guān)管使用場效應(yīng)管,那大多數(shù)是NMOS管,而PMOS管用著少。
在文章《開關(guān)電源(1)之BUCK變換器》中詳細介紹了降壓型BUCK開關(guān)電源拓撲,并且還用下圖做了一次仿真:
用PMOS管來實現(xiàn)開關(guān)切換功能的電路是要多簡潔就多簡潔
同樣的現(xiàn)象也存在于BOOST變換器芯片中,BOOST單片升壓芯片典型應(yīng)用電路如下圖所示:
同樣,有些升壓芯片多了一個BOOST/BST引腳,如下圖所示:
這里要說明一下:上圖中芯片外圍接有的PMOS管并不是必須的,因為BOOST拓撲由于其本身的特性,在芯片不工作時輸出是無法關(guān)閉的(輸出電壓略小于輸入電壓),這與BUCK拓撲不同,如果需要完全關(guān)閉電壓輸出,必須額外添加一個PMOS管開關(guān)電路,這就是我們在文章開關(guān)介紹的PMOS管電源開關(guān)控制電路。
該芯片的內(nèi)部開關(guān)管的結(jié)構(gòu)如下圖所示:
當然,異步整流升壓芯片就沒必要再弄個BST引腳了,因為NMOS管已經(jīng)是比較理想的架構(gòu)了,我們在文章《開關(guān)電源(2)之BOOST變換器》中也是用NMOS管來仿真的,如下圖所示:
前面提到過,PMOS管的導(dǎo)通電阻比NMOS管的導(dǎo)通電阻要大,我們可以找外部參數(shù)盡量相同的數(shù)據(jù)手冊來對比一下,如下圖所示:
在相同的工藝、耐壓等條件下,NMOS導(dǎo)通電阻為0.036W(W就是歐姆的意思,形狀很像符號Ω),而PMOS導(dǎo)通電阻要大得多,其值為0.117Ω,當然,這并不能作為PMOS管的導(dǎo)通電阻比NMOS要大的直接證據(jù),然而事實上,在相同的工藝及尺寸面積條件下,PMOS管的導(dǎo)通電阻確實要比NMOS管要大,這樣PMOS開關(guān)管的導(dǎo)通損耗比NMOS要大。
將PMOS管應(yīng)用場合比較少的原因歸結(jié)于P溝道導(dǎo)通電阻更大似乎是個比較理想的答案,然而我們還是不禁要問一下:為什么PMOS管的導(dǎo)通電阻比NMOS要大呢?這主要是源自于導(dǎo)通溝道在一個特性方面的差別:電子遷移率(Electron mobility)。
我們在文章《二極管》里講解PN結(jié)的時候,已經(jīng)提到過P型半導(dǎo)體與N型半導(dǎo)體的由來,P型半導(dǎo)體就是在本征半導(dǎo)體中摻入3價的元素(如硼元素),其結(jié)構(gòu)如下圖的所示:
在合理的范圍內(nèi)摻入的雜質(zhì)越多,則多數(shù)載流子空穴就更多,P型半導(dǎo)體的導(dǎo)電性也似乎將會變得更好。
相應(yīng)的,N型半導(dǎo)體就是在本征半導(dǎo)體(純凈無摻雜的)中摻入5價的元素(如磷元素),其結(jié)構(gòu)如下圖的所示:
同樣的,在合理范圍內(nèi)摻入的雜質(zhì)越多,則多數(shù)載流子電子就更多,N型半導(dǎo)體的導(dǎo)電性也因此似乎將會變得更好,而PMOS管或NMOS管的導(dǎo)通溝道就是P型或N型,這看起來兩者沒有太大的區(qū)別,只要控制摻入雜質(zhì)的數(shù)量,就可以控制摻雜半導(dǎo)體的導(dǎo)電性,但實際上并非這么回事!因為半導(dǎo)體的導(dǎo)電性不僅與載流子(電子或空穴)濃度有關(guān),還與載流子的遷移率(速度)有關(guān)。
我們從初中物理學就知道,導(dǎo)體之所以容易導(dǎo)電,是因為自由電子比較多,而絕緣體很難導(dǎo)電是因為自由電子比較少,半導(dǎo)體中的導(dǎo)電性也是類似的。
NMOS管是導(dǎo)電溝道是N型半導(dǎo)體,其多數(shù)載流子是電子,當半導(dǎo)體外部施加電場時,載流子電子將按下圖所示的遷移:
載流子電子在由A點到F點的運動過程中,不斷地與晶格原子或雜質(zhì)離子發(fā)生碰撞,因此運動軌跡不是直線的,只有一個平均的遷移方向(細節(jié)可自行參考相關(guān)文檔),但有一點需要注意的是:載流子電子在遷移過程中不會進入共價鍵中,總是在圖所示的“空檔”移動,這些地方?jīng)]有共價鍵位置的束縛力,因此載流子電子的遷移率(速度)比較高。
在《半導(dǎo)體物理學》中,我們把自由電子存在的空間叫做導(dǎo)帶,而把共價鍵所在的空間叫做價帶,很明顯,價帶中有來自晶格原子(如硅、鍺)或雜質(zhì)離子(如硼、磷)的束縛力,因此價帶(共價鍵)中的電子要跑出來就必須具備一定的能量(如光或熱),而電子在導(dǎo)帶中則不需要。
PMOS管是導(dǎo)電溝道是P型半導(dǎo)體,其多數(shù)載流子是空穴,當半導(dǎo)體外部施加電場時,載流子空穴將按下圖所示的遷移:
空穴移動可以看作是電子的反向移動,每一次空穴移動時,都可以看成是電子從導(dǎo)帶中跳入到價帶中(填充某個空穴),再從價帶中跳出來往相鄰的價帶中移動,很明顯,空穴遷移的速度是不如電子遷移速度的,因為電子一旦跳進價帶(共價鍵)中,就會受到共價鍵的束縛力,需要更多的能量激發(fā)才能跳出來。
你可以將這種遷移方式比作游泳,NMOS管相當于在水里游泳,而PMOS管相當于在油水相間的泳道中游泳,很明顯,在相同的條件下,在水里游泳的速度會更快一些,如下圖所示:
電子與空穴遷移率的差別表現(xiàn)之一在場效應(yīng)管的開關(guān)速度上,我們在文章《邏輯門》中已經(jīng)介紹過,CMOS反相器是由一個PMOS管與NMOS管來完成的,如下圖所示:
當輸入A=0時,輸出Y=1,當輸入A=1時,輸出Y=0,由于PMOS管(上側(cè)帶圈圈的)的空穴遷移率比NMOS管的電子遷移率要小,因此,在相同的尺寸條件下,輸出Y的上升速率比下降速率要慢,這樣帶來的結(jié)果是:開關(guān)損耗相應(yīng)會比NMOS管大一些(關(guān)于“開關(guān)損耗”可參考文章【開關(guān)電源(1)之BUCK變換器】)。
當然,你可以做一個與NMOS管驅(qū)動能力相同的PMOS管,但需要的器件面積可能是NMOS管的2~3倍,這就是錢吶,而且器件面積會影響導(dǎo)通電阻、輸入輸出電容,而這些參數(shù)會影響電路的延遲。
同樣,在相同的尺寸條件下,PMOS管溝道導(dǎo)通電阻比NMOS要大一些,這樣開關(guān)導(dǎo)通損耗相應(yīng)也會比NMOS管要大一些
正是因為遷移率的差別才有速度與溝道導(dǎo)通電阻的差別,才導(dǎo)致PMOS管的應(yīng)用范圍受到限制,這樣PMOS的市場用量必然不如NMOS管,從工藝上來講,PMOS管與NMOS管的制造并無多大不同,但市場經(jīng)濟的杠桿總是無處不在的,所以PMOS管比NMOS管貴很大一部分也是由市場決定的(材料成本低并不總意味著價格低),而不能簡單地認為:因為PMOS管與NMOS管貴,所以應(yīng)用場合少。
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